В ЗНТЦ представили первый отечественный литограф

«Новая совместная разработка имеет ряд преимуществ: существенно увеличена площадь рабочего поля (22х22 мм по сравнению с предшествующей 3,2х3,2 мм), на ступень больше максимальный диаметр обрабатываемых пластин (200 мм вместо 150 мм). Кроме того, в мировой практике для производства данных литографов в качестве источника излучения используется ртутная лампа, в российской установке впервые использован твердотельный лазер — более мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром», — рассказал генеральный директор АО «ЗНТЦ» Анатолий Ковалёв.

В настоящее время ведётся адаптация технологических процессов установки под нужды конкретных производств и уже подписываются соглашения на поставку первых экземпляров оборудования. Все испытания разрабатываемой техники, а также последующая адаптация техпроцессов под особенности производств будут проводиться на специализированной платформе инженерно-исследовательского центра АО «ЗНТЦ».

Как напоминают в АО «ЗНТЦ», тестирование оборудования электронного машиностроения позволяет решить проблемы отладки, не затрагивая технологические процессы и ресурсы действующих производств, и существенно сократить путь от разработки оборудования до серийного выпуска микроэлектронной продукции.

В настоящее время также идут работы по созданию установки совмещения и проекционной экспозиции с разрешением 130 нм. Завершение проекта намечено на 2026 год.